光學設(shè)備、實驗室儀器等需要使用潔凈干燥空氣進行各種用途的吹掃。吹掃氣體有可能把不需要的氣態(tài)污染物引入光學鏡片和硅片區(qū)域。這種污染物會吸收光，在鏡片上留下淀積物或者淀積在進行工藝加工中的硅片上，從而導致產(chǎn)品損失(很差的圖形品質(zhì))和潛在的工藝設(shè)備損壞(污染物在鏡片表面積聚)。對于使用潔凈干燥空氣作為鏡片的吹掃氣體所碰到的問題，本公司提供了完滿的解決方案，潔凈氣體干燥純化器針對半導體應(yīng)用超高純氣體而設(shè)計的，采用脫烴、硫化物、鹵化物、殘油、灰塵顆粒等雜質(zhì)，從而得到潔凈干燥氣體。
技術(shù)參數(shù)：
原 料 氣：空氣、氫氣、氧氣、氮氣、氬氣、氨氣、二氧化碳、一氧化碳等氣體，露點≤－40℃。
凈化后質(zhì)量指標：經(jīng)脫水干燥、露點≤-70℃～-90℃，或根據(jù)用戶具體情況而定，經(jīng)后級凈化，可脫除空氣中硫化物、鹵化物、碳氫等等雜質(zhì)，使空氣達到潔凈要求。
操 作 壓 力：輸入≥ 0.8MPa( 壓力愈高愈好 ) ，輸出壓力略低于輸入壓力
處 理 氣 量：1—1000Nm 3 /h
適應(yīng)范圍：實驗室氣體分析、載氣、標準氣/混合氣配氣、半導體材料生產(chǎn)、有色金屬加工、精細化工